接触孔
![接触孔(contact)](https://i.ecywang.com/upload/1/img2.baidu.com/it/u=3747933816,752548623&fm=253&fmt=auto&app=138&f=JPG?w=398&h=145)
接触孔(contact)
图片尺寸398x145![接触孔刻蚀工艺规范](https://i.ecywang.com/upload/1/img0.baidu.com/it/u=1235216408,1020084227&fm=253&fmt=auto&app=138&f=JPEG?w=726&h=500)
接触孔刻蚀工艺规范
图片尺寸1444x995![接触孔的形成方法技术](https://i.ecywang.com/upload/1/img2.baidu.com/it/u=1777062098,2471119363&fm=253&fmt=auto&app=138&f=GIF?w=500&h=317)
接触孔的形成方法技术
图片尺寸1000x634![通孔是指向下贯穿的圆孔,也成为接触孔.](https://i.ecywang.com/upload/1/img0.baidu.com/it/u=3908052411,3023467156&fm=253&fmt=auto&app=138&f=JPEG?w=729&h=480)
通孔是指向下贯穿的圆孔,也成为接触孔.
图片尺寸729x480![18微米接触孔的刻蚀方法-爱企查](https://i.ecywang.com/upload/1/img2.baidu.com/it/u=340464179,2586014975&fm=253&fmt=auto&app=138&f=JPEG?w=510&h=500)
18微米接触孔的刻蚀方法-爱企查
图片尺寸1192x1168![接触孔的制造方法与流程](https://i.ecywang.com/upload/1/img2.baidu.com/it/u=4194348205,2929141813&fm=253&fmt=auto&app=138&f=GIF?w=973&h=500)
接触孔的制造方法与流程
图片尺寸1000x514![形成半导体器件接触孔的方法](https://i.ecywang.com/upload/1/img2.baidu.com/it/u=1628201448,4185397933&fm=253&fmt=auto&app=138&f=JPEG?w=500&h=500)
形成半导体器件接触孔的方法
图片尺寸800x800![接触孔形成方法薄膜半导体装置的制法电子器件及其制法](https://i.ecywang.com/upload/1/img0.baidu.com/it/u=1737210356,18367375&fm=253&fmt=auto&app=138&f=GIF?w=330&h=500)
接触孔形成方法薄膜半导体装置的制法电子器件及其制法
图片尺寸1632x2476![din-vde0620-1-lehre10-b 德标插头单极接触孔触点的不可能性量规](https://i.ecywang.com/upload/1/img0.baidu.com/it/u=138628813,4143723819&fm=253&fmt=auto&app=138&f=JPEG?w=500&h=500)
din-vde0620-1-lehre10-b 德标插头单极接触孔触点的不可能性量规
图片尺寸1024x1024![一种改善fdsoi器件接触孔大小的方法与流程](https://i.ecywang.com/upload/1/img1.baidu.com/it/u=1655804372,1303643369&fm=253&fmt=auto&app=138&f=JPEG?w=444&h=321)
一种改善fdsoi器件接触孔大小的方法与流程
图片尺寸444x321![接触孔及其制造方法与流程](https://i.ecywang.com/upload/1/img0.baidu.com/it/u=41123087,1937785319&fm=253&fmt=auto&app=138&f=GIF?w=440&h=500)
接触孔及其制造方法与流程
图片尺寸879x1000![自对准接触孔的工艺方法与流程](https://i.ecywang.com/upload/1/img0.baidu.com/it/u=3322634396,2710207239&fm=253&fmt=auto&app=138&f=GIF?w=1000&h=431)
自对准接触孔的工艺方法与流程
图片尺寸1000x431![用于018微米接触孔的刻蚀方法](https://i.ecywang.com/upload/1/img2.baidu.com/it/u=681898432,3349593434&fm=253&fmt=auto&app=138&f=GIF?w=500&h=490)
用于018微米接触孔的刻蚀方法
图片尺寸1192x1168![自对准接触孔采用一个横向垫片将栅极与源漏接触孔相隔离.](https://i.ecywang.com/upload/1/img1.baidu.com/it/u=4292042101,3304988618&fm=253&fmt=auto&app=138&f=JPEG?w=973&h=347)
自对准接触孔采用一个横向垫片将栅极与源漏接触孔相隔离.
图片尺寸1026x366![soi工艺技术ppt](https://i.ecywang.com/upload/1/img1.baidu.com/it/u=762862012,1696418936&fm=253&fmt=auto&app=138&f=JPEG?w=500&h=375)
soi工艺技术ppt
图片尺寸1080x810![共享接触孔](https://i.ecywang.com/upload/1/img1.baidu.com/it/u=327515824,3027670551&fm=253&fmt=auto&app=138&f=JPEG?w=670&h=500)
共享接触孔
图片尺寸816x609![cn102376636a_形成接触孔的方法有效](https://i.ecywang.com/upload/1/img1.baidu.com/it/u=3528998542,2228665903&fm=253&fmt=auto&app=138&f=GIF?w=528&h=500)
cn102376636a_形成接触孔的方法有效
图片尺寸1260x1194![第三章集成电路的制造工艺](https://i.ecywang.com/upload/1/img1.baidu.com/it/u=2241661733,1256314246&fm=253&fmt=auto&app=138&f=JPEG?w=667&h=500)
第三章集成电路的制造工艺
图片尺寸1200x900![接触孔为了将晶体管的三个电极即栅极,源极,漏极透過介质膜之上的金属](https://i.ecywang.com/upload/1/img1.baidu.com/it/u=2036929948,1586354558&fm=253&fmt=auto&app=138&f=JPEG?w=500&h=500)
接触孔为了将晶体管的三个电极即栅极,源极,漏极透過介质膜之上的金属
图片尺寸500x500![碲镉汞p型接触孔低损伤干法刻蚀技术研究](https://i.ecywang.com/upload/1/img1.baidu.com/it/u=4195958657,1558785256&fm=253&fmt=auto&app=138&f=JPEG?w=500&h=408)
碲镉汞p型接触孔低损伤干法刻蚀技术研究
图片尺寸944x771