浸没式光刻机
日本尼康宣布全新arf浸没式光刻机:精度小于2.1纳米,价格便宜30%
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图片尺寸640x360华力迎来首台浸没式光刻设备 助力先进芯片生产
图片尺寸1024x768首台浸没式光刻设备——twinscan xt:1150i
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图片尺寸1200x8107亿欧元的水浸没式193nm光刻机在euv光刻机出现之前,技术人员利用duv
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图片尺寸800x320而且采用的光源为第四代的arf,波长为193nm,其中浸没步进式光刻机可
图片尺寸1000x563asml 推出的浸没式光刻机,asml netherland b.v.[nl]
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